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等離子清洗常見的清洗方式都有哪些呢?

更新時間:2022-06-06      點擊次數:1351
  等離子清洗技術已經逐漸滲透到我們的生活和工作中,并悄悄地改變了人們的生活質量。隨著等離子表面處理技術的快速發展,清洗機已廣泛應用于光學玻璃、汽車制造、紡織面料、電子電器、包裝印刷、塑料加工、化妝品等行業。
  
  等離子體的清洗方式分為化學清洗、物理清洗和物理加化學清洗。對于不同的清潔對象,可選擇O2、H2和Ar等藝術氣體進行短時間表面處理。
  
  一、什么是化學反應清洗:
  
  它采用等離子中的高活性自由基和材料表層的有機物進行化學反應,采用氧氣清洗,使非揮發性有機物變成揮發性形式,產生二氧化碳,一氧化碳和水。化學清洗的優勢是清洗速度高,選擇性好,對清洗有機污染物質更有效的。
  
  主要缺點是產生的氧化物可能會在材料表層再次形成。在導線鍵環節中,氧化物這一些缺點可以通過適當的工藝參數來避免。
  
  二、什么是物理反應清洗:
  
  利用等離子中的離子進行純物理沖擊,清除附著在材料表層的原子,氬氣用于清潔,氬氣用足夠的能量轟擊器件表層,足以清除產品表面的污垢。例如:聚合物中的大分子被分離成小分子并蒸發,并通過真空泵排出。
  
  同時,氬氣等離子清洗后,可以改變材料表層的微觀形式,使材料在分子級范圍內變得更加粗糙,可以大大提高表面活性,提升表層的粘結性能。
  
  氬氣等離子的優勢是清潔材料表層不會留下任何氧化物。缺點是過度腐蝕或污染物質顆粒可能在其他不希望區域重新積累,但這一些缺點可以通過詳細調整工藝參數來控制。
  
  三、在清洗過程中,可同時清洗物理化學進行反應:
  
  物理反應和化學反應在清洗中起著關鍵作用。如果在線等離子清洗環節中采用O2混合氣體,反應速率比單獨采用Ar或O2快。氬離子加速后,產生的動能可以提升氧離子的反應能力,因此物理化學方法可以清除污染嚴重的材料表層。

蘇公網安備 32058302004421

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